感应激光体刻蚀法（edrt）是化学过程和物理过程共同作用的结果。

　　它的基本原理是在真空低气压下，ed射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈，以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电，产生高密度的激光，在下电极的rt射频作用下，这些等激光对基片表面进行轰击，基片图形区域的半导体材料的化学键被打断，与刻蚀气体生成挥发性物质，以气体形式脱离基片，从真空管路被抽走。

　　刘林看了看，把眉头都皱成一团，之前因为就大概的扫了两眼，没详细看，结于其难度可以说是很模糊，毕竟全部资料都是现成的，不需要设计，也不需要研发，跟着图纸制造出来就行了！

　　看来是自己想简单了！

　　刘林用手揉了揉，感觉发痛的太阳穴，吐了一口浊气，把资料往下翻！

　　刘苛等人看到刘林认真的在翻资料，便对着桌观上的配件再一次仔细观察，希望能找到问题出在哪。

　　ed设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。

　　预真空室：预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来，它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。

　　刻蚀腔体：刻蚀腔体是ed刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响，刻蚀腔的主要组成有：上电极、ed射频单元、rt射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

　　供气系统：供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，通过压力控制器（p）和质量流量控制器（f）精准的控制气体的流速和流量。

　　真空系统：真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。

　　刻蚀腔体就是现在桌子上卡动不弹不了的那组合件。

　　现在刻蚀腔体就把刘林给卡住了，后面还有曝光镜头，d相机等十几个同等难度的组合件呢。

　　rdd离子激光仪工艺技术精度是01μ！

　　刘林看到精度的时候，太阳穴不由的又跳了跳，要知道超级加工中心精度才0001，都是同一个级别了好吧。

　　卧槽

　　刘森差点爆了个粗口，太坑爹了吧，不出问题才就怪事了，以现在的工艺基本就加工不出来好吧。

　　超级加工中心还是自己用作弊手段才弄出来的好吧，现在想直接加工到01μ，想多了吧，晚上睡觉多放个枕头。

　　梦中什么都有了，刘林看到这，基本可以肯定不是自己技术不行，而是自己所用的设备，根本没办法把rdd离子激光仪制造出来。

　　因为不是一个层次的东西。

　　全世界有一家算有家，如果谁能制造出来，刘林直接叫他爹都行。

　　刘林瞄了眼好像还有最后一页，本来

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