、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。”
“越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。”
“可能大家不是专业,不知道,光刻机的波长越短,可曝光的特征尺寸就越小,波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高。”
“还有就是离子束比激动束,有着非常大的能量,能量越大,曝光时间就越短。”
“而我设计的光刻机,不管是在支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等,理论上都比ASML的EUVNXE3350B强!”
“他的可见g线:136nm,i线:65nm,深紫外光(DUV),KrF准分子离子束:48nm,ArF准分子离子束:23nm!”
“它可以加工2nm的精度!”
2nm的精度?
不会是乱报的吧?
怎么可能有这么高的精度?
真的假的?
刘林前面说的技术,可能自己不是专业听不明白,但是最后果的可以2nm的精度还是明白的!
要知道现在就世界上最牛的光刻机最高精度,是H兰国的,好像是5nm?
现在你跟我说你设计的光刻机加工精度达到2nm?确认没搞错?
忽悠人也不是这么忽悠的吧!
一个个虽然心里不怎么相信,但也学乖了,刚才差点被刘林玩坏掉!
这次不长我个心眼是不行了!
要知道台眼地操蛋的家伙,有时候真的好想上去打他一顿,简直是坑死人不偿命。
要是再长多个心眼,迟早给玩死。
所以还是乖乖地当一个三好学生,等刘林继续...
你继续表现,现在你是老大,你说了算,你想怎么表演就怎么表演。
还不行嘛。
五老板在中午的时候就收到相关的信息,自然不会太多的表示。
而莎女士现在有点为M国跟H兰国感到悲哀了!
而H兰国,可以说是无辜中枪啊!
可以说是倒大霉了。
谁让你没事跟M国混的!
能怪谁?
所以...
这下炮弹砸到了吧,真是晴天霹雳,祸从天降啊。
不过这跟自己可没关系,反正自己国家又不制造芯片,你们慢慢的跟华国打吧!
没事你找人家麻烦干什么?
现在好啦,人家一个个技不要钱的往外丢,不把你弄得不死不活,就不罢休。
投降?
保能说呵呵了!
你世界老大的位置还要不要了,还有世界第一财团的位置还要不要了?
现在H兰国也跟着遭殃。
光刻机给这个操蛋的家伙盯上了,不知道是福还是祸。
后面会怎么样,这个真的很难说。
还好自己Y国聪明。
现在抢了个先手。
M国你们慢慢跟他打吧,我没事边上看着就行。
莎女士这时候都
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